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電子工業(yè)超純水設(shè)備系統(tǒng)概述

 隨著電子工業(yè)的發(fā)展,在芯片的生產(chǎn)加工過程中,對于水質(zhì)的要求也越來越高。為了保證生產(chǎn)出超大規(guī)模的集成電路,除高純原材料、高純氣體、高純化學(xué)藥品外,超純水也是其中最關(guān)鍵的因素之一。

 

   預(yù)處理部分主要包括:沙濾、活性碳塔(有的廠商在沙濾前還增設(shè)反應(yīng)槽、氣浮池);一次純水處理部分主要包括:陰陽離子交換塔、脫氣塔(DG)、保安過濾器、紫外線殺菌器及多級反滲透;超純水處理部分主要包括:MDG(脫氧膜組)、TOC-UV殺菌器、混床(MB)及終端過濾器。

  考慮到在向工藝設(shè)備輸送高純水過程中,輸水管道會對水質(zhì)再次造成污染,因而在FAB內(nèi)一般都設(shè)立拋光循環(huán)系統(tǒng)。拋光循環(huán)系統(tǒng)主要以MB為核心,再加上超濾設(shè)備(UF),以除去在向工藝生產(chǎn)線輸送純水的過程中,管網(wǎng)溶入水中的雜質(zhì)。

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